[发明专利]一种抗损伤宽角度减反射复合微纳结构及其制备方法在审
| 申请号： | 202111037089.5 | 申请日： | 2021-09-06 |
| 公开（公告）号： | CN114114474A | 公开（公告）日： | 2022-03-01 |
| 发明（设计）人： | 欧阳名钊;马子烨;吴锦双;付跃刚;任航;刘智颖;王加科;张磊 | 申请（专利权）人： | 长春理工大学 |
| 主分类号： | G02B1/11 | 分类号： | G02B1/11;C23C16/40;C23C16/455;C30B29/06;C30B33/12;C30B33/00;C30B33/02 |
| 代理公司： | 北京中理通专利代理事务所(普通合伙) 11633 | 代理人： | 刘慧宇 |
| 地址： | 130022 吉林*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 一种抗损伤宽角度减反射复合微纳结构及其制备方法，属于光学技术领域，为克服高深宽比一种抗损伤宽角度减反射复合微纳结构，在任意光学谱段进行构建，该结构由微结构单元阵列构成，微结构单元周期满足亚波长条件，每个微结构单元包括在光学材料基底表面制备的仿生蛾眼微纳结构和在蛾眼结构表面共性生长的复合保护膜层；仿生蛾眼微纳结构为圆台、圆锥或圆柱，复合保护层选用高透过率材料，将仿生蛾眼微纳结构包裹其中；蛾眼微纳结构所带来的抗环境损伤性能下降的问题，与单一的蛾眼结构相比，减反射复合微纳结构在正入射和宽角度保证透过率的情况下，达到减小深宽比和满占空比效果，使得微纳复合结构在基底表面排列紧凑，达到了一定的抗损伤效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 损伤 角度 反射 复合 结构 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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