[发明专利]一种高精密次微米晶圆封装级光掩膜基版及其生产方法

摘要

本发明公开了一种高精密次微米晶圆封装级光掩膜基版，该高精密次微米晶圆封装级光掩膜基版从上至下依次包括铬氮氧化物低反射膜层、铬氮化物遮光膜层、铬氮氧化物防凹陷膜层以及玻璃基片。该高精密次微米晶圆封装级光掩膜基版的生产方法主要为提供一个Cr靶材，通过通入气体以形成所需的膜层，经过实际检测可得出：使得该高精密次微米晶圆封装级光掩膜基版具有高精度的光学物性，且该高精密次微米晶圆封装级光掩膜基版的靶向及行车方向均达到高均匀性。