[发明专利]一种纳米抗指纹防眩膜及其制备工艺有效
| 申请号： | 202111051543.2 | 申请日： | 2021-09-08 |
| 公开（公告）号： | CN113831569B | 公开（公告）日： | 2022-05-17 |
| 发明（设计）人： | 向一民;安太勇;张杰海;陈志强 | 申请（专利权）人： | 江苏怡丽科姆新材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C08J7/04 | 分类号： | C08J7/04;C08J7/046;C08L67/02;C09D175/14;C09D171/02;C09D7/62 |
| 代理公司： | 南京明杰知识产权代理事务所(普通合伙) 32464 | 代理人： | 葛红 |
| 地址： | 211900 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种纳米抗指纹防眩膜及其制备工艺，本申请选择引入磁性二氧化硅，通过分散剂对磁性二氧化硅进行分散改进，得到磁性填料，分散剂为吐温‑20，吐温‑20的端羟基可以与二氧化硅表面的羟基键合，并通过氢键吸附，以提高磁性二氧化硅的分散性能，得到分散性优异的磁性填料。本申请公开了一种纳米抗指纹防眩膜及其制备工艺，工艺设计合理，操作简单，制备得到的防眩膜不仅具有优异的防眩性能，同时表面疏水，防污防指纹性能优异，通过采用不同粒径的磁性填料进行定向排列，制备得到的防眩膜的耐磨性能优异，实用性较高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 纳米 指纹 防眩膜 及其 制备 工艺 | ||
【主权项】：
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