[发明专利]一种无掩模光刻系统及其对应的光刻方法在审
| 申请号： | 202111059163.3 | 申请日： | 2021-09-10 |
| 公开（公告）号： | CN113721429A | 公开（公告）日： | 2021-11-30 |
| 发明（设计）人： | 邱志勇;常朔 | 申请（专利权）人： | 大连理工大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 大连理工大学专利中心 21200 | 代理人： | 李晓亮 |
| 地址： | 116024 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 一种无掩模光刻系统及其对应的光刻方法，包括暗箱及暗箱中的光刻子系统，子系统包括：光刻用复合光源及观察用子光源、用于生成光刻图案的数字微反射镜器件、承载基板的载物台组件、设置于载物台组件与数字微反射镜器件间的，用于曝光与直接观察的镜片组，以及其他设置于同一暗箱中的光刻辅助设备。利用数字微反射镜器件和光刻用复合光源组件直接绘制光刻图案，通过镜片组将图案进行不同比例的缩小并投影，对载物台上承载的基板进行曝光；载物台可实现XYZ轴精密位移，及Z轴精密旋转，通过载物台的调整使基板与投影透镜组的像面重合以承接清晰的光刻图案。本发明可通过观察光路实现对曝光表面实时的直接观察、对准和测量，从而实现不同倍率组合下的套刻功能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 无掩模 光刻 系统 及其 对应 方法 | ||
【主权项】：
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