[发明专利]相对不同工作表面使用不同光源的轨迹追踪装置在审
| 申请号： | 202111075491.2 | 申请日： | 2018-05-22 |
| 公开（公告）号： | CN113885717A | 公开（公告）日： | 2022-01-04 |
| 发明（设计）人： | 陈晖暄;杨政霖;陈之悠 | 申请（专利权）人： | 原相科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G06F3/0354 | 分类号： | G06F3/0354;G01B11/02 |
| 代理公司： | 北京润平知识产权代理有限公司 11283 | 代理人： | 肖冰滨;王晓晓 |
| 地址： | 中国台湾新竹科学*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 一种轨迹追踪装置，用于检测相对工作表面的位移量，所述轨迹追踪装置包含：图像传感器，该图像传感器用于输出图像帧；透镜；激光二极管，该激光二极管用于朝向所述工作表面打光，且所述激光二极管的光被所述工作表面反射后不经过所述透镜入射至所述图像传感器；发光二极管，该发光二极管用于朝向所述工作表面打光，且所述发光二极管的光被所述工作表面反射后经过所述透镜入射至所述图像传感器；以及处理器，该处理器用于计算所述图像帧的图像特征，并根据所述图像特征控制所述激光二极管或所述发光二极管发光，其中所述激光二极管点亮时所述发光二极管熄灭，且所述发光二极管点亮时所述激光二极管熄灭。 | ||
| 搜索关键词： | 相对 不同 工作 表面 使用 光源 轨迹 追踪 装置 | ||
【主权项】：
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