[发明专利]纳米级硅化物和Laves相增强难熔高熵合金材料及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202111096394.1 申请日: 2021-09-16
公开(公告)号: CN113862542B 公开(公告)日: 2023-02-03
发明(设计)人: 马兆龙;刘宸毓;徐子祁;程兴旺 申请(专利权)人: 北京理工大学
主分类号: C22C30/00 分类号: C22C30/00;C22C27/02;C22F1/18;C22C32/00
代理公司: 北京正阳理工知识产权代理事务所(普通合伙) 11639 代理人: 邬晓楠
地址: 100081 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种纳米级硅化物和Laves相增强难熔高熵合金材料及其制备方法,属于高熵合金领域。该新型合金由Nb、Ti、Ta、Cr、Al、V、Si、Mo等元素构成,铸态条件下该合金为单相BCC结构,通过冷变形及后续的热处理方法对该合金进行处理,获得具有大量弥散分布的纳米级M5Si3相和Laves相。该合金的密度≤8g/cm3,兼具高的拉伸屈服强度和断裂延伸率,具有优异的力学性能。其屈服强度可以达到850MPa以上,并且断裂延伸率在10%以上。同时在高温下,该合金具有良好的抗氧化性能。
搜索关键词: 纳米 级硅化物 laves 增强 难熔高熵 合金材料 及其 制备 方法
【主权项】:
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