[发明专利]一种反常霍尔元件及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202111109797.5 申请日: 2021-09-23
公开(公告)号: CN113571632B 公开(公告)日: 2021-12-10
发明(设计)人: 程雅慧;李岩;张瑞;陈菲菲;刁凌雪;刘晖 申请(专利权)人: 南开大学
主分类号: H01L43/06 分类号: H01L43/06;H01L43/10;H01L43/04;H01L43/14;C30B23/04;C30B29/52;C23C14/04;C23C14/16;C23C14/35
代理公司: 天津翰林知识产权代理事务所(普通合伙) 12210 代理人: 付长杰
地址: 300350 天*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明提供了一种反常霍尔元件及其制备方法,以在单晶MgO(100)上外延生长的Fe、Cr共掺杂的单晶Ni薄膜作为活性层材料,活性层形状为“十”字形,薄膜厚度为2nm~30 nm,采用离子束沉积法生长。本发明的微型反常霍尔元件具有较小的体积,较大的反常霍尔电阻率,较小的电阻率和功耗,较宽的工作温度范围,在磁电信号转换等领域有广泛的应用。
搜索关键词: 一种 反常 霍尔 元件 及其 制备 方法
【主权项】:
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