[发明专利]一种边缘耦合器在审
| 申请号： | 202111114240.0 | 申请日： | 2021-09-23 |
| 公开（公告）号： | CN113835156A | 公开（公告）日： | 2021-12-24 |
| 发明（设计）人： | 姚笑笑;杨致之;潘时龙;李思敏 | 申请（专利权）人： | 南京航空航天大学 |
| 主分类号： | G02B6/30 | 分类号： | G02B6/30;G02B6/122 |
| 代理公司： | 北京德崇智捷知识产权代理有限公司 11467 | 代理人： | 杨楠 |
| 地址： | 210000 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种边缘耦合器，自下而上包括：衬底层、埋氧层、倒锥形结构波导以及包覆所述倒锥形结构波导的包层；在所述包层之上还设置有用于将光场模式向上提拉的光场分布控制结构，所述光场分布控制结构包括自下而上的若干个复合层结构，每个复合层结构均由一个高折射率材料层和包覆所述高折射率材料层的包层材料构成，各复合层结构中的高折射率材料层的一端均与所述倒锥形结构波导的窄端平齐，且各复合层结构中的高折射率材料层沿所述倒锥形结构波导中光信号传输方向的长度自下而上逐层减小。相比现有技术，本发明可有效解决模式泄漏至衬底的问题，提高耦合效率，且工艺简单，实现成本较低。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 边缘 耦合器 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南京航空航天大学，未经南京航空航天大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202111114240.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
