[发明专利]单层及多层微纳结构图形试样跟踪装置及方法在审
| 申请号： | 202111114317.4 | 申请日： | 2021-09-23 |
| 公开（公告）号： | CN113899738A | 公开（公告）日： | 2022-01-07 |
| 发明（设计）人： | 刘星;魏劲松;许孝忠 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G01N21/84 | 分类号： | G01N21/84;G01N21/01 |
| 代理公司： | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人： | 张宁展 |
| 地址： | 201800 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 单层及多层微纳结构图形试样跟踪装置及方法,装置包括照明模块、线阵CCD、计算机、光阑、分光棱镜、面阵CCD、激光器、分光元件、成像透镜、反射镜、扩束镜、衰减片、1/2波片、偏振分光棱镜、1/4波片等，将微纳结构图形试样放置于位移台上，通过粗调电机使得微纳结构图形试样表面在面阵CCD中清晰成像，通过线阵CCD采集的激光光斑直径数据得出当前位置的离焦量，控制压电陶瓷实时自动跟踪。利用线阵CCD中高精度像素使得激光光斑的微小变化即可被检测，激光光斑经过物镜与成像系统进行了二次放大使得光斑的变化率变大，系统灵敏度高。本发明根据线阵CCD高速实时测量光斑直径得出离焦距离而非通过光斑能量判断。 | ||
| 搜索关键词： | 单层 多层 结构 图形 试样 跟踪 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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