[发明专利]一种投影光刻机、照明系统、控制系统及方法在审
| 申请号： | 202111115762.2 | 申请日： | 2021-09-23 |
| 公开（公告）号： | CN113805439A | 公开（公告）日： | 2021-12-17 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 上海度宁科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海大邦律师事务所 31252 | 代理人： | 陈丹枫 |
| 地址： | 201306 上海市浦东新区自*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种投影光刻机、照明系统、控制系统及方法。照明系统包括：光源、微镜阵列、照明光路以及微镜阵列数字控制器；所述光源适于发出曝光光束，所述微镜阵列数字控制器适于发出微镜阵列控制信号，以控制所述微镜阵列不同区域的微镜像素开闭状态；所述微镜阵列适于根据所述微镜阵列控制信号形成狭缝窗口，接收入射至所述狭缝窗口的曝光光束，以形成照明光束；所述照明光路适于调制所述照明光束，以在掩模版上形成照明视场。本发明能够简化投影光刻机扫描狭缝模块控制复杂度，并降低扫描狭缝窗口的实现成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 投影 光刻 照明 系统 控制系统 方法 | ||
【主权项】：
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