[发明专利]一种包括增透保护膜的光学元件及其制备方法有效
| 申请号： | 202111115911.5 | 申请日： | 2021-09-23 |
| 公开（公告）号： | CN114019591B | 公开（公告）日： | 2023-08-01 |
| 发明（设计）人： | 李欢欢;路淑娟;曹波;许宁;王伦;张云博;贾孟 | 申请（专利权）人： | 有研国晶辉新材料有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/115 | 分类号： | G02B1/115;G02B1/14;C23C14/06;C23C14/18;C23C14/32;C23C16/26;C23C28/00 |
| 代理公司： | 北京辰权知识产权代理有限公司 11619 | 代理人： | 张晓玲 |
| 地址： | 065201 河北省廊坊市三*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光学元件，包括：基底；交替垂直堆叠在所述基底上表面的n层硫化锌膜和n层锗膜，并且靠近所述基底的是所述硫化锌膜，靠近所述基底的硫化锌膜为第1层硫化锌膜，以及靠近所述基底的锗膜为第1层锗膜，依次顺序命名；以及堆叠在第n层所述锗膜上的类金刚石膜；其中，所述基底为ZnSe，且n为2以上的正整数。本发明的光学元件兼具较高的透过率和较高的抗机械损伤性能。本发明还涉及所述光学元件的制备方法。该制备方法工艺简单、无污染、成本低。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 包括 保护膜 光学 元件 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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