[发明专利]一种绝缘栅双极型晶体管及其制作方法在审

专利信息
申请号: 202111118333.0 申请日: 2021-09-22
公开(公告)号: CN115842049A 公开(公告)日: 2023-03-24
发明(设计)人: 李巍;芮强 申请(专利权)人: 无锡华润华晶微电子有限公司
主分类号: H01L29/739 分类号: H01L29/739;H01L29/06;H01L21/331
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 田婷
地址: 214135 江苏省无锡市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明提供一种绝缘栅双极型晶体管及其制作方法,该晶体管包括基底、沟槽栅结构、发射区、绝缘埋层、接触区、层间介质层、发射极导电层及导电连接部,其中,基底设有依次层叠的集电区、场截止层、漂移层及基区,绝缘埋层位于基区内且在发射区下方,并与沟槽栅结构间隔预设距离。本发明一方面通过在发射区下方增加绝缘埋层,阻挡空穴电流流经发射区和基区,从而使得PN结正偏变得非常困难,防止PN结正偏带来的闩锁效应;另一方面通过贯穿绝缘埋层的接触孔,使得发射极导电层连接至P型基区形成槽型发射极,深槽发射极可以缩短空穴流经路径,加速抽取空穴,实现良好的关断特性。所以本发明不仅可以提升IGBT的抗闩锁能力,而且还能提升器件的关断能力。
搜索关键词: 一种 绝缘 栅双极型 晶体管 及其 制作方法
【主权项】:
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