[发明专利]PVD-CVD联用制备类金刚石膜的方法、类金刚石膜、合金材料及汽车部件有效
| 申请号： | 202111124614.7 | 申请日： | 2021-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN113862671B | 公开（公告）日： | 2022-08-02 |
| 发明（设计）人： | 龙丹;林勇刚;王立利 | 申请（专利权）人： | 科汇纳米技术（深圳）有限公司 |
| 主分类号： | C23C28/00 | 分类号： | C23C28/00;C23C16/26;C23C16/50;C23C14/16;C23C14/06;C23C14/02;C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京维正专利代理有限公司 11508 | 代理人： | 黄勇;任志龙 |
| 地址： | 518101 广东省深圳市宝安*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请涉及类金刚石层领域，尤其涉及一种PVD‑CVD联用制备类金刚石膜的方法、类金刚石膜、合金材料及汽车部件。PVD‑CVD联用制备类金刚石膜的方法，先在基材表面通过PVD法依次镀制Cr层、CrW层以及WC层；之后在所述WC层上通过CVD法镀制类金刚石层。类金刚石膜，采用上述PVD‑CVD联用制备类金刚石膜的方法制备而得，类金刚石膜包括依次叠合的Cr层、CrW层、WC层以及类金刚石层，Cr层与基材连接。合金材料，其表面镀制有上述类金刚石膜。汽车部件，其采用上述合金材料制成。本申请通过在基材表面依次镀制Cr层、CrW层及WC层而构成了一个性能渐变的过渡层，使从基材到类金刚石层的性能变化更加缓和，从而减少了“蛋壳效应”的产生，有利于类金刚石层更好的发挥作用。 | ||
| 搜索关键词： | pvd cvd 联用 制备 金刚石 方法 合金材料 汽车部件 | ||
【主权项】：
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