[发明专利]一种高分辨率闪烁体薄膜、制备方法和制备设备及应用在审
| 申请号： | 202111138820.3 | 申请日： | 2021-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN113845909A | 公开（公告）日： | 2021-12-28 |
| 发明（设计）人： | 谷战军;吴晓辰;董兴华 | 申请（专利权）人： | 中国科学院高能物理研究所 |
| 主分类号： | C09K11/66 | 分类号： | C09K11/66;C09K11/06;C09K11/02;G01T1/20;G01T1/29 |
| 代理公司： | 北京天达知识产权代理事务所(普通合伙) 11386 | 代理人： | 姚东华 |
| 地址： | 100049 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种高分辨率闪烁体薄膜及其制备方法和制备设备，属于高分辨X射线成像领域，解决现有闪烁体成膜技术中闪烁体薄膜不均匀、辐射发光强度低等缺陷的技术问题。所述高分辨率闪烁体薄膜包括保护层和闪烁体层。本发明提供的技术方案通过改善闪烁体薄膜的质地均匀程度，降低闪烁体薄膜厚度，增加闪烁体薄膜的透明性，以提升闪烁体薄膜的分辨率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 高分辨率 闪烁 薄膜 制备 方法 设备 应用 | ||
【主权项】：
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