[发明专利]一种多晶体材料缺陷尺寸的超声测量方法有效

专利信息
申请号: 202111139539.1 申请日: 2021-09-28
公开(公告)号: CN113588794B 公开(公告)日: 2021-12-17
发明(设计)人: 李雄兵;宋永锋;倪培君;史亦韦;郑孟 申请(专利权)人: 中南大学
主分类号: G01N29/04 分类号: G01N29/04;G01N29/06;G01N29/44;G06F17/14;G06F30/20
代理公司: 长沙伊柏专利代理事务所(普通合伙) 43265 代理人: 罗莎
地址: 410000*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明公开了一种多晶体材料缺陷尺寸的超声测量方法,其包括以下步骤:S1、基于背散射响应模型,建立多晶体材料晶粒噪声的瑞利分布,以及晶粒噪声与缺陷回波之间的相干缺陷回波幅值的莱斯分布;S2、根据所述瑞利分布和莱斯分布,构建缺陷回波幅值的限界分布模型,并通过其逆累积分布计算置信上限和下限;S3、基于超声测量模型和C扫描实验测得的相干缺陷回波幅值,以步骤S2中得到的置信上限和下限,获取所述多晶体材料的缺陷尺寸的区间估计。本发明能够在低信噪比的环境下,对微小缺陷的尺寸进行有效的测量。
搜索关键词: 一种 多晶体 材料 缺陷 尺寸 超声 测量方法
【主权项】:
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