[发明专利]一种改善曝光焦距均匀性的方法在审
| 申请号： | 202111139947.7 | 申请日： | 2021-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN113917799A | 公开（公告）日： | 2022-01-11 |
| 发明（设计）人： | 王建涛 | 申请（专利权）人： | 上海华力集成电路制造有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 戴广志 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种改善曝光焦距均匀性的方法，提供前层版图、当层版图；确定当层曝光图形区域，根据该曝光图形区域位置确定与其对应的前层版图中图形区域的疏密度为密集图形；利用前层版图在晶圆上形成目标结构并进行当层的光刻胶涂布；量测目标结构中疏密度不同的图形区域上的光刻胶厚度；得到不同光刻胶厚度与疏密度的对应关系；提供与前层版图中密集图形对应的当层的曝光焦距进行当层曝光图形区域的光刻胶曝光；将不同光刻胶厚度与所述疏密度对应关系映射到前层疏密度与当层曝光焦距的对应关系；利用与前层密集图形对应的当层的曝光焦距及前层疏密度与当层曝光焦距的对应关系，得到前层不同疏密度对应的当层的曝光焦距。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 改善 曝光 焦距 均匀 方法 | ||
【主权项】：
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