[发明专利]一种含氧空位的多孔二氧化钛材料及其制备方法和应用有效
| 申请号： | 202111144639.3 | 申请日： | 2021-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN113735163B | 公开（公告）日： | 2022-05-20 |
| 发明（设计）人： | 翟茂林;李爽笑;石伟群;王琳;彭静;李久强 | 申请（专利权）人： | 北京大学 |
| 主分类号： | C01G23/053 | 分类号： | C01G23/053;C01G23/04;C02F1/30;C02F1/70;C02F101/22 |
| 代理公司： | 北京万象新悦知识产权代理有限公司 11360 | 代理人： | 李稚婷 |
| 地址： | 100871*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种含氧空位的多孔二氧化钛材料及其制备方法和应用，是以Ti基MXene为前驱体、利用辐射氧化的方法制备层片状含氧空位的多孔二氧化钛。该多孔二氧化钛材料具有高比表面积、强可见光吸收的特性，可作为光催化剂应用于光催化还原反应，例如在可见光下实现六价铬的光催化高效还原。所采用的辐照氧化的制备方法简便、快速、体系纯净，克服了现有方法能耗高、需要加入额外的氧化剂等的缺点，易于批量化大规模生产。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 空位 多孔 氧化 材料 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
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