[发明专利]磁畴壁移动元件及磁阵列在审

专利信息
申请号: 202111146579.9 申请日: 2021-09-28
公开(公告)号: CN114373780A 公开(公告)日: 2022-04-19
发明(设计)人: 柴田龙雄;佐佐木智生 申请(专利权)人: TDK株式会社
主分类号: H01L27/22 分类号: H01L27/22;H01L43/06;H01L43/08;H01L43/10;H01L43/14
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 杨琦
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供MR比大且磁畴壁的控制性也高的磁畴壁移动元件及磁阵列。本实施方式的磁畴壁移动元件具备:磁阻效应元件,其从接近基板的一侧起依次具有参照层、非磁性层以及磁畴壁移动层;第一磁化固定层和第二磁化固定层,其分别与所述磁畴壁移动层相接,且相互分开,所述磁畴壁移动层包括包含多个插入层的铁磁性层,所述铁磁性层包含Co及Fe,且具有垂直磁各向异性,在写入时,在所述第一磁化固定层和所述第二磁化固定层之间沿着所述磁畴壁移动层流通写入电流。
搜索关键词: 磁畴壁 移动 元件 阵列
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于TDK株式会社,未经TDK株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202111146579.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top