[发明专利]一种光谱分析用高纯等静压石墨材料及其制备方法在审
| 申请号： | 202111146604.3 | 申请日： | 2021-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN113979750A | 公开（公告）日： | 2022-01-28 |
| 发明（设计）人： | 闵洁;高智;张培林;张彦举 | 申请（专利权）人： | 大同新成新材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C04B35/52 | 分类号： | C04B35/52;C04B35/532;C04B35/622 |
| 代理公司： | 太原智慧管家知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 14114 | 代理人： | 张洋 |
| 地址： | 037002 *** | 国省代码： | 山西;14 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光谱分析用高纯等静压石墨材料的制备方法，包括以下步骤：获取满足指标条件的各组分‑二次炭黑的制备‑第一次干混‑第二次干混‑湿混‑等静压成型及后续工艺处理‑石墨化处理制成光谱分析用高纯等静压石墨材料，本发明通过在原料沥青焦中加入二次炭黑、石墨粉等，与原料中的其他材料相融合，可以补充成品石墨材料的机械强度；本发明对原料进行研磨，再通过模压成型、烧结炭化处理，最后通过石墨化工艺，可以增加高纯石墨材料的密度和强度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光谱分析 高纯 静压 石墨 材料 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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