[发明专利]一种基于近场三维成像的雷达散射截面积精确外推方法在审
| 申请号： | 202111149048.5 | 申请日： | 2021-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN113866766A | 公开（公告）日： | 2021-12-31 |
| 发明（设计）人： | 张晓玲;胥小我;蒲羚;张天文;师君;韦顺君 | 申请（专利权）人： | 电子科技大学 |
| 主分类号： | G01S13/90 | 分类号： | G01S13/90 |
| 代理公司： | 电子科技大学专利中心 51203 | 代理人： | 曾磊 |
| 地址： | 611731 四川省成*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明属于合成孔径雷达(SAR)雷达散射截面积(RCS)测量技术领域，公开了一种基于近场三维成像的雷达散射截面积(RCS)精确外推方法，用来解决现有RCS外推技术不足的问题。该方法主要包括初始化雷达系统及观测场景参数，基于初始化相关参数构造测量矩阵，采用标准的贝叶斯学习方法对数据块进行基于块的学习处理，采用近场三维格林函数对雷达剖面进行三维成像处理，采用标准平面元加权算子实现NF‑FF补偿五个部分。初始化雷达系统及观测场景参数，基于初始化相关参数构造测量矩阵，采用标准的贝叶斯学习方法对数据块进行基于块的学习处理，采用近场三维格林函数对雷达剖面进行三维成像处理四个步骤实现了目标近场三维图像和标称观测点的获取，第五个步骤旨在从近场三维图像中精确获得RCS；该方法的计算负担增加在可控范围内，其RCS外推结果的平均绝对偏差(MAD)和标准偏差(STD)较其他经典的RCS外推算法低，这表明该成像方法在RCS外推精度上比其他算法有着显著提高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 近场 三维 成像 雷达 散射 截面 精确 方法 | ||
【主权项】：
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