[发明专利]一种金刚石基非晶碳-氧化钇梯度复合增透膜的制备方法有效

专利信息
申请号: 202111149652.8 申请日: 2021-09-29
公开(公告)号: CN113832430B 公开(公告)日: 2023-09-05
发明(设计)人: 周兵;刘竹波;于盛旺;马永;王永胜;郑可;吴艳霞;高洁;黑鸿君 申请(专利权)人: 太原理工大学
主分类号: C23C14/02 分类号: C23C14/02;C23C14/06;C23C14/08;C23C14/58;C23C14/32;C23C14/28;C23C14/35;C23C14/30
代理公司: 太原市科瑞达专利代理有限公司 14101 代理人: 申艳玲
地址: 030024 山西*** 国省代码: 山西;14
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摘要: 发明公开了一种金刚石基非晶碳‑氧化钇梯度复合增透膜的制备方法,首先将预处理后的金刚石光学晶片材料进行中低温离子束刻蚀清洗处理,在金刚石晶片的上下两面同时依次制备高sp3键含量的四面体非晶碳和低sp3键含量的三维网络非晶碳薄膜;然后对非晶碳薄膜先后进行真空退火去应力和抛光去石墨相大颗粒处理工艺,得到光滑平整表面;最后在处理后的非晶碳薄膜上下表面分别沉积氧化钇薄膜,从而得到金刚石基非晶碳‑氧化钇梯度复合增透膜。本发明综合利用非晶碳过渡层的折射率易调控特性及其与氧化钇复合薄膜高增透的优势,对于降低金刚石与增透膜界面失配,提高金刚石红外增透效果及其红外光学系统应用具有重要意义。
搜索关键词: 一种 金刚石 基非晶碳 氧化钇 梯度 复合 增透膜 制备 方法
【主权项】:
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