[发明专利]一种用于光声断层成像的阵元虚拟插值方法在审

专利信息
申请号: 202111152250.3 申请日: 2021-09-29
公开(公告)号: CN113936069A 公开(公告)日: 2022-01-14
发明(设计)人: 孟彧仟;王若凡;施钧辉;陈睿黾;李驰野 申请(专利权)人: 之江实验室
主分类号: G06T11/00 分类号: G06T11/00;A61B5/00
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 邱启旺
地址: 310023 浙江省杭州市余*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明提出了一种用于光声断层成像的基于最小二乘估计理论的阵元虚拟插值方法,包括:获取系统阵列采集的光声信号;计算各初始阵元的相移因子;计算各虚拟阵元的相移因子;插值计算虚拟阵元的接收信号。该方法以最小二乘估计方法为基础,利用系统各阵元以及虚拟阵元的空间信息最大限度的拟合虚拟阵元信号的时延信息,并基于已有信号还原虚拟阵元的波形数据,从而插值得到虚拟阵元的接收信号。通过插值后的阵列信号重构图像,能够有效解决原阵列系统因空间欠采样而导致的伪迹混叠现象。
搜索关键词: 一种 用于 断层 成像 虚拟 方法
【主权项】:
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