[发明专利]一种C1有效

专利信息
申请号: 202111156551.3 申请日: 2021-09-25
公开(公告)号: CN113893707B 公开(公告)日: 2023-06-23
发明(设计)人: 仲崇立;贾雪梦;奥德;乔志华;孙玉绣;郭翔宇 申请(专利权)人: 天津工业大学
主分类号: B01D69/14 分类号: B01D69/14;B01D69/02;B01D67/00;B01D71/68;B01D53/22
代理公司: 北京维正专利代理有限公司 11508 代理人: 李鑫伟
地址: 300380 *** 国省代码: 天津;12
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摘要: 本申请涉及一种C1‑C4碳氢化合物优先渗透的混合基质膜及其制备方法和应用。一种C1‑C4碳氢化合物优先渗透的混合基质膜,自下而上依次为基材、形成于基材上的过渡层和结合于过渡层上的多孔配位聚合物膜。其制备方法包括多孔配位聚合物制备、过渡层的制备和多孔配位聚合物膜与过渡层的结合,其中多孔配位聚合物膜,即将多孔配位聚合物X‑PCP/PEI的乙醇/H2O溶液涂覆在过渡层的表面上经干燥得到,所述多孔配位聚合物X‑PCP是将金属盐ZrCl4的水溶液和配体的N’N‑二甲基甲酰胺溶液混匀后加热反应,再依次经离心、洗涤、干燥制得,所得混合基质膜可用于气体分离,特别是对C1‑C4碳氢化合物较H2可优先渗透。
搜索关键词: 一种 base sub
【主权项】:
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