[发明专利]半导体工艺设备及其阻抗匹配方法在审
| 申请号： | 202111160966.8 | 申请日： | 2021-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN113921366A | 公开（公告）日： | 2022-01-11 |
| 发明（设计）人： | 李文庆;韦刚;杨京;蒋书棋;张迪 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67;H03H7/40 |
| 代理公司： | 北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315 | 代理人： | 姚琳洁 |
| 地址： | 100176 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请实施例公开了一种半导体工艺设备及其阻抗匹配方法，用以解决现有的半导体工艺过程中阻抗匹配效率较低的问题。所述方法包括：工艺准备步：获取当前存储的工艺起辉步对应的阻抗匹配数据，阻抗匹配数据包括半导体工艺设备阻抗匹配器中参数可调器件对应的参数调节位；根据参数调节位，调节参数可调器件；工艺起辉步：通过阻抗匹配器向半导体工艺设备的工艺腔室加载射频功率，同时通过阻抗匹配器进行阻抗匹配，并在达到阻抗匹配时确定参数可调器件的当前参数调节位；根据当前参数调节位，更新阻抗匹配数据。该技术方案能够根据阻抗匹配数据中的参数调节位准确的自动调节参数可调器件，缩短了阻抗匹配时间，提高了阻抗匹配效率。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 工艺设备 及其 阻抗匹配 方法 | ||
【主权项】：
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