[发明专利]具有在阱区中的钳位区和晶体管单元的碳化硅器件在审

专利信息
申请号: 202111165369.4 申请日: 2021-09-30
公开(公告)号: CN114361238A 公开(公告)日: 2022-04-15
发明(设计)人: 拉尔夫·西明耶克;沃尔夫冈·扬切尔;大卫·卡默兰德尔;德塔德·彼得斯;约阿希姆·魏尔斯 申请(专利权)人: 英飞凌科技股份有限公司
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L29/16;H01L29/78
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 康建峰;李德山
地址: 德国瑙伊*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种碳化硅器件包括晶体管单元(TC),该晶体管单元包括栅电极(155)和具有第一导电类型的源极区(110)。在碳化硅本体(100)中形成漏极/漂移区(130)。具有第二导电类型的埋置区(425)和漏极/漂移区(130)形成pn结。埋置区(425)和阱区(410)形成单极结。埋置区(425)的平均净掺杂剂密度N2大于阱区(410)的平均净掺杂剂密度N1。具有第一导电类型的第一钳位区(411)延伸到阱区(410)中。第一低电阻欧姆路径(901)电连接第一钳位区(411)和栅电极(155)。具有第一导电类型的第二钳位区(412)延伸到阱区(410)中。第二低电阻欧姆路径(902)电连接第二钳位区(412)和源极区(110)。
搜索关键词: 具有 中的 钳位区 晶体管 单元 碳化硅 器件
【主权项】:
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