[发明专利]一种金属-氧化物纳米薄膜材料及其制备方法在审
| 申请号： | 202111169979.1 | 申请日： | 2021-10-08 |
| 公开（公告）号： | CN113921216A | 公开（公告）日： | 2022-01-11 |
| 发明（设计）人： | 欧修龙;王绍民;曾昭峰;石义杰;路素彦;江勇;李著龙;赵进学 | 申请（专利权）人： | 汉江师范学院 |
| 主分类号： | H01F1/01 | 分类号： | H01F1/01;H01F1/34;H01F41/00 |
| 代理公司： | 深圳市洪荒之力专利代理有限公司 44541 | 代理人： | 李向丹 |
| 地址： | 442000 湖*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种金属‑氧化物纳米薄膜材料及其制备方法，涉及包括硅基片，硅基片上设置有多条的金属靶纹和氧化物纹，所述金属条纹和条状的所述氧化物纹两者间隔设置；所述金属条纹为采用FeCoB、FeNi等软磁合金靶制成；所述氧化物纹为SiO |
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| 搜索关键词： | 一种 金属 氧化物 纳米 薄膜 材料 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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