[发明专利]一种基于飞秒激光直写的光学模拟平台制备方法在审
| 申请号： | 202111178870.4 | 申请日： | 2021-10-09 |
| 公开（公告）号： | CN113866880A | 公开（公告）日： | 2021-12-31 |
| 发明（设计）人： | 侯智善;曹宇;蔡燕;丁潇川;薛伟;陈瑞溢;朱小伟 | 申请（专利权）人： | 温州大学 |
| 主分类号： | G02B6/138 | 分类号： | G02B6/138;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京中北知识产权代理有限公司 11253 | 代理人： | 陈孝政 |
| 地址： | 325000 浙江省温州市瓯海经济*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种基于飞秒激光直写的光学模拟平台制备方法，包括：样品片准备、加工台调平；之后启动加工程序，使得飞秒激光焦点位于光刻胶/硅的交界面而且在激光焦点保持不动的同时，样品片按照设计结构实现长程连续移动，最终在样品片上完成整个波导阵列的扫描；然后再经未交联光刻胶去除、旋涂波导阵列包层等步骤，既得到微米级别聚合物基波导阵列。该制备方法利用飞秒激光双光子聚合高精度点‑线‑面加工能力实现微米级别聚合物基波导阵列的快速制备。由于飞秒激光无掩模、真三维的加工特点，实现了聚合物波导阵列任意的高度、宽度、截面的精确定制，进而利用波导截面双折射梯度实现相关光学模拟实验。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 激光 光学 模拟 平台 制备 方法 | ||
【主权项】：
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