[发明专利]一种硅铬旋转溅射靶材及其制备方法有效
| 申请号： | 202111181333.5 | 申请日： | 2021-10-11 |
| 公开（公告）号： | CN113897585B | 公开（公告）日： | 2022-06-17 |
| 发明（设计）人： | 石煜;曾墩风;王志强;马建保;盛明亮 | 申请（专利权）人： | 芜湖映日科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;B22F1/12;B22F9/02;C23C4/02;C23C4/06;C23C4/134;C23C4/16;C23C4/18 |
| 代理公司： | 南京正联知识产权代理有限公司 32243 | 代理人： | 杨静 |
| 地址： | 241000 安徽省芜湖市中国（安徽）自*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种硅铬旋转溅射靶材及其制备方法。本发明靶材由15‑95份的Si和5‑85份的Cr作为原料，采用等离子喷涂工艺制备而成。制备工艺包括：S1粉体制备；S2背管喷砂；S3背管打底；S4等离子喷涂；S5激光熔覆；S6靶材抛光；S7靶材车两端及精修；S8检验、包装。本发明硅铬旋转溅射靶材具有较高的致密度，氧含量低，机械强度、导电率、溅射效率等性能较佳。上述技术效果的取得是产品配方、制备方法等多个技术手段综合作用的结果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 旋转 溅射 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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