[发明专利]用于移轴成像条件下的光场相机校准方法及系统有效

专利信息
申请号: 202111193310.6 申请日: 2021-10-13
公开(公告)号: CN113923445B 公开(公告)日: 2023-09-26
发明(设计)人: 李维;曾飞;赵洲;施圣贤;欧阳华 申请(专利权)人: 中国航发湖南动力机械研究所;上海交通大学
主分类号: H04N17/00 分类号: H04N17/00;G01B11/24
代理公司: 上海汉声知识产权代理有限公司 31236 代理人: 胡晶
地址: 412002 湖南省株*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明提供了一种用于移轴成像条件下的光场相机校准方法及系统,包括:拍摄不同景深位置的黑底白点校准板,得到已知三维位置的白点的光场图像;将各光场相机光圈大小调至最小拍摄白色背景,得到光圈中心投影图像;使用平行光照射各光场相机,拍摄白色背景,得到微透镜中心图像;通过三维位置白点的光场图像、光圈中心投影图像及微透镜中心图像,根据计算得到不同位置白点在光场相机中成像的弥散圆直径及圆心坐标;拟合弥散圆直径及圆心坐标与三维体空间位置的映射函数;根据光场相机成像规律和三维体空间位置的映射函数,实现移轴成像条件下的光场相机校准。本发明能够实现在移轴成像条件下的光场相机校准,满足了对多光场相机系统的校准需要。
搜索关键词: 用于 成像 条件下 相机 校准 方法 系统
【主权项】:
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