[发明专利]一种石墨烯场致发射源的制备方法有效

专利信息
申请号: 202111198934.7 申请日: 2021-10-14
公开(公告)号: CN113943932B 公开(公告)日: 2023-10-24
发明(设计)人: 黄世耀;罗理;石雷;楼洪四;汪强;李腾;秦春林 申请(专利权)人: 重庆信合启越科技有限公司
主分类号: H01J9/02 分类号: H01J9/02
代理公司: 重庆乐泰知识产权代理事务所(普通合伙) 50221 代理人: 张丽楠
地址: 401329 重*** 国省代码: 重庆;50
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摘要: 发明的目的在于提供一种石墨烯场致发射源的制备方法,本方法通过高温将含碳气体中的碳原子溶解到金属材料之中,通过阶段性降温的过程将碳析出到金属表面形成石墨烯层,并且对碳源浓度和降温过程的控制可以实现对石墨烯层厚度与规模的控制,石墨烯与其金属基底结合更加的紧密,两者之间电阻远小于通过转移后制备的发射体,在大电流通过结合部位时发热量更小,同时发射尖端露出的金属基底可以有效接收靶材反射的二次电子等,减少石墨烯发射尖端由于电子或离子回轰造成的损伤。在使用本方法制备的石墨烯场致发射源可以有效的提高阴极的发射电流密度,具有很低的开启场和阈值场,稳定性好的特点;同时,其制备方法简单、能耗低、易于实现工业化生产;在制成发射部件后功率更高,稳定性更好,寿命更长。
搜索关键词: 一种 石墨 烯场致 发射 制备 方法
【主权项】:
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