[发明专利]一种高对比度成像星冕仪微点密度调制系统及工作方法在审

专利信息
申请号: 202111204451.3 申请日: 2021-10-15
公开(公告)号: CN114137721A 公开(公告)日: 2022-03-04
发明(设计)人: 窦江培;陈祎力;张熙;王钢 申请(专利权)人: 中国科学院国家天文台南京天文光学技术研究所
主分类号: G02B27/00 分类号: G02B27/00
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 代理人: 马严龙
地址: 210042 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种高对比度成像星冕仪微点密度调制系统,涉及星冕仪技术领域,包括望远镜入射端、反射镜、准直镜、孔径光阑、光瞳调制器、成像镜和探测器,反射镜设有两片,分别位于望远镜入射端、准直镜和光瞳调制器、成像镜之间,所述光瞳调制器包括多个调制带,每个调制带上设置有多个明微点和暗微点,光瞳调制器的调整带数范围为10‑200,还提出一种高对比度成像星冕仪微点密度调制系统的工作方法。该高对比度成像星冕仪微点密度调制系统,通过改变调制带上明暗微点的空间密度分布来实现透过率变化调制的目的,对所有的工作波长都可以实现相同的调制效果,该发明能够彻底解决传统星冕仪通光效率因观测波段过窄而受限的技术难题。
搜索关键词: 一种 对比度 成像 星冕仪微点 密度 调制 系统 工作 方法
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