[发明专利]双开式遮蔽机构及薄膜沉积机台在审
| 申请号： | 202111204712.1 | 申请日： | 2021-10-15 |
| 公开（公告）号： | CN115976476A | 公开（公告）日： | 2023-04-18 |
| 发明（设计）人： | 林俊成 | 申请（专利权）人： | 天虹科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/56 |
| 代理公司： | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人： | 孙皓晨 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种双开式遮蔽机构及薄膜沉积机台，主要包括一第一及一第二遮蔽板、至少一驱动马达及一轴封装置，其中驱动马达通过轴封装置的外管体及轴体分别连接第一及第二遮蔽板，驱动第一及第二遮蔽板朝相反方向摆动，并在一开启状态及一遮蔽状态之间切换。第一及第二遮蔽板皆包括至少一凹槽，以减少第一及第二遮蔽板的重量，并减轻驱动马达承载及驱动第一及第二遮蔽板的负担。 | ||
| 搜索关键词： | 双开 遮蔽 机构 薄膜 沉积 机台 | ||
【主权项】：
暂无信息
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