[发明专利]一种低收缩高耐久型染料系偏光片及其制备方法在审
| 申请号： | 202111214172.5 | 申请日： | 2021-10-19 |
| 公开（公告）号： | CN114002770A | 公开（公告）日： | 2022-02-01 |
| 发明（设计）人： | 李广鑫;曾特壕;张卓莉;陈朝晖;李中原 | 申请（专利权）人： | 深圳市盛波光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02B1/14;C08J7/00;C08L29/04;C09J7/29;B32B27/32;B32B27/06;B32B7/12;B32B37/12;B32B38/16 |
| 代理公司： | 深圳市科吉华烽知识产权事务所(普通合伙) 44248 | 代理人： | 胡吉科 |
| 地址： | 518000 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种低收缩高耐久型染料系偏光片及其制备方法，该制备方法包括：调配混合染色液，将混合染色液注入染色槽中，加入助染剂，使聚乙烯醇系薄膜在染色液中的拉伸倍率为1.5~2.0；染色助剂的质量百分比浓度为0.5~5.0%，所述混合染色液的温度为20~60℃；将聚乙烯醇系薄膜进行单轴拉伸取向，使聚乙烯醇系薄膜的拉伸倍率为1.5~2.7；将聚乙烯醇系薄膜浸渍于含有固色剂和交联剂的水溶液进行固色，拉伸倍率为0.9~1.1；对偏光膜进行干燥，干燥温度为35~70℃；将偏光膜通过胶粘剂上下贴合两层内保护膜形成层压体。采用本发明的技术方案，制备的染料系偏光片在高温高湿环境下还具有低收缩、高耐久的特性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 收缩 耐久 染料 偏光 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市盛波光电科技有限公司，未经深圳市盛波光电科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202111214172.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
