[发明专利]一种真空专用连续节拍式镀膜系统在审
| 申请号： | 202111218251.3 | 申请日： | 2021-10-20 |
| 公开（公告）号： | CN114059034A | 公开（公告）日： | 2022-02-18 |
| 发明（设计）人： | 李鹏 | 申请（专利权）人： | 北京中科科美科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C14/35;C23C14/50 |
| 代理公司： | 北京纽乐康知识产权代理事务所(普通合伙) 11210 | 代理人： | 张朝元 |
| 地址： | 102206 北京市昌平*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种真空专用连续节拍式镀膜系统，包括进样室是由分子泵和前级干泵组成，室内设有托盘升降子系统，采用限流结构进行抽气和充气；工艺真空室由分子泵和前级干泵组成，后端布置有离子轰击组件，室内设有顶升机构；托盘升降子系统由双层托盘架、密封阀板、主轴、升降丝杠和导杆、焊接波纹管及伺服驱动子系统组成；托盘传输子系统包括托盘和托盘传输车；溅射沉积室的腔体底部设高抽管道、有双侧导轨，腔室后端为加热轰击区域，底面布置有工件托盘升降机构和射频电源。本发明通过采用独特的卧式结构设计及特殊结构的阴极，可实现高溅射、高均匀性及高靶材的有效使用率，适合从研发应用到大批量生产，可沉积介质膜、金属膜等材料。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 真空 专用 连续 节拍 镀膜 系统 | ||
【主权项】：
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