[发明专利]一种卤铜铯晶体的制备方法有效

专利信息
申请号: 202111219006.4 申请日: 2021-10-20
公开(公告)号: CN113955792B 公开(公告)日: 2023-05-02
发明(设计)人: 刘满营;范二闯;郑直 申请(专利权)人: 许昌学院
主分类号: C01G3/00 分类号: C01G3/00
代理公司: 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 代理人: 乔宇
地址: 461000 河*** 国省代码: 河南;41
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摘要: 发明公开了一种卤铜铯晶体的制备方法。首先制备晶体母液:按铜与铯的原子比为2:1称量铜源和铯源;将称量好的铜源、铯源、氢卤酸混合均匀,氢卤酸过量,装入密闭反应釜中进行水热反应形成卤铜铯CsCu2X3晶体母液;卤铜铯晶体生长:在上述卤铜铯母液中,缓慢加入晶体生长剂,合成卤铜铯CsCu2X3晶体。本发明通过水热反应和晶体调节生长技术成功得到纯净的卤铜铯晶体,解决了卤铜铯晶体的制备难题,为卤铜铯晶体的制备提供了新思路。
搜索关键词: 一种 卤铜铯 晶体 制备 方法
【主权项】:
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