[发明专利]光学膜片厚度自适应设计方法及系统在审

专利信息
申请号: 202111229043.3 申请日: 2021-10-21
公开(公告)号: CN113805336A 公开(公告)日: 2021-12-17
发明(设计)人: 陈瑜;黄杰明;林媛媛;戴顺鹏;邱旭平 申请(专利权)人: 福建华佳彩有限公司
主分类号: G02B27/00 分类号: G02B27/00;G02B5/00
代理公司: 福州君诚知识产权代理有限公司 35211 代理人: 戴雨君
地址: 351100 福*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明公开了一种光学膜片厚度自适应设计方法及系统,包括如下步骤:S1:首先处理器初步计算目标亮度/色度要求下各区域对应的膜厚数据;S2:调节上下基板的电压,使各区域液位发生变化;S3:位于出光成像侧的成像亮度色度计扫描出光面,获取各区域对应的多点亮度与色度数据,上传至数据处理器中;S4:将步骤S3上传的亮度/色度数据和分布情况与给定的目标值进行比较,判断是否符合要求;S5:结束调整循环,输出各区域电压、液位、膜厚、亮度/色度数据及均匀性结果;本发明创新的将反馈控制引入光学膜片设计中,实现指定亮度/色度指标下的光学膜片厚度、表面形貌自动设计;可解决人工设计效率低、工作繁琐、精度低、成本高等问题。
搜索关键词: 光学 膜片 厚度 自适应 设计 方法 系统
【主权项】:
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