[发明专利]基于动态阵元合成孔径聚焦的平板陶瓷膜缺陷超声成像方法有效

专利信息
申请号: 202111240956.5 申请日: 2021-10-25
公开(公告)号: CN114047256B 公开(公告)日: 2023-10-20
发明(设计)人: 孙进;雷震霆 申请(专利权)人: 扬州大学
主分类号: G01N29/06 分类号: G01N29/06
代理公司: 南京理工大学专利中心 32203 代理人: 张祥
地址: 225009*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明属于超声检测和成像领域,具体涉及一种基于动态阵元合成孔径聚焦的平板陶瓷膜缺陷超声成像方法。包括如下步骤:步骤(1):根据平板陶瓷膜进行超声设备的搭建和确定换能器数量;步骤(2):改变换能器的位置;步骤(3):采用动态阵元合成孔径聚焦的方法进行检测;在非缺陷区域采用单阵元检测模式,在缺陷区域采用多阵元检测模式,基于超声缺陷引起阵元接收能量的差异进而切换单阵元与多阵元的检测模式;步骤(4):进行超声检测数据的储存;步骤(5):对步骤(4)储存的数据进行运算,进行缺陷点的聚焦成像。本发明提出通过将多个小型超声波阵列拼接成大尺寸的超声波阵列,以此提高聚焦孔径,缩小焦点直径,来提高聚焦精度和成像速率。
搜索关键词: 基于 动态 合成 孔径 聚焦 平板 陶瓷膜 缺陷 超声 成像 方法
【主权项】:
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