[发明专利]一种并行复合型光器件刻蚀系统与方法有效
| 申请号： | 202111246707.7 | 申请日： | 2021-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN114024197B | 公开（公告）日： | 2023-02-24 |
| 发明（设计）人： | 陶青;魏良朋;刘顿;陈列;杨奇彪;娄德元;翟中生;成健 | 申请（专利权）人： | 湖北工业大学 |
| 主分类号： | H01S3/094 | 分类号： | H01S3/094 |
| 代理公司： | 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 | 代理人： | 胡琦旖 |
| 地址： | 430068 湖*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明属于光器件加工制造技术领域，公开了一种并行复合型光器件刻蚀系统与方法。本发明提供的并行复合型光器件刻蚀系统包括精加工子系统和粗加工子系统，能够实现粗精混合加工。精加工子系统和粗加工子系统均可得到N路的加工并行光束，能够实现并行精加工和并行粗加工，能够有效提高加工效率。通过设置光栅对阵列对精加工中的焦点处光斑的三维形貌进行调整，能够提高光器件的加工精度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 并行 复合型 器件 刻蚀 系统 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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