[发明专利]光电探测器及其制作方法在审

专利信息
申请号: 202111247579.8 申请日: 2021-10-26
公开(公告)号: CN114005895A 公开(公告)日: 2022-02-01
发明(设计)人: 金山;陆书龙;边历峰;李雪飞;杨文献;邱海兵 申请(专利权)人: 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
主分类号: H01L31/028 分类号: H01L31/028;H01L31/0304;H01L31/109;H01L31/18
代理公司: 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 代理人: 孙伟峰
地址: 215123 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 提供了一种光电探测器及其制作方法,所述光电探测器包括由MXene材料层和AlGaN材料层形成的MXene/AlGaN范德瓦尔斯异质结。与传统的异质结相比,MXene材料具有较高的透光率、金属导电性以及可调的功函数,所形成的范德瓦尔斯异质结不受晶格匹配的限制,缺陷极少,能够极大地提升界面质量,因此,基于所述MXene/AlGaN范德瓦尔斯异质结形成的光电探测器,不仅有利于提高光电探测器的光吸收效率和光生电流的传输效率,提高光响应度,还能有效地降低光电探测器的制造成本,为光电探测器的规模化应用提供新的契机。此外,所述光电探测器的制作方法缩减了工艺步骤,制作方法简单。
搜索关键词: 光电 探测器 及其 制作方法
【主权项】:
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