[发明专利]真空监控器及蒸镀设备在审
| 申请号： | 202111249713.8 | 申请日： | 2021-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN113957407A | 公开（公告）日： | 2022-01-21 |
| 发明（设计）人： | 姬磊;罗楠;李靖;刘金彪;加新星;李元星;刘文豪;胡斌;党博谭;李端瑞;周杰;祁泽宙;兰代江;刘飞 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/54 | 分类号： | C23C14/54;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开一种真空监控器及蒸镀设备，涉及蒸镀技术领域，以减小更换真空监控器所造成的蒸镀空间内的真空度波动，减少不良品产出，提高良品率。该真空监控器包括真空监控组件和抽真空组件。其中，真空监控组件内设有真空腔，且真空监控组件上设有连通真空腔的进样口和出气口。进样口用于连接蒸镀设备的蒸镀机；抽真空组件与出气口连接，用于对真空腔进行抽真空。本发明用于监控蒸镀机的蒸镀空间内的真空度。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 监控器 设备 | ||
【主权项】：
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