[发明专利]一种用于连续离子层吸附的化学液相沉积成膜的设备有效
申请号: | 202111253917.9 | 申请日: | 2021-10-27 |
公开(公告)号: | CN114016006B | 公开(公告)日: | 2022-06-28 |
发明(设计)人: | 林原;雷岩;方艳艳;解东梅;周晓文 | 申请(专利权)人: | 中国科学院化学研究所 |
主分类号: | C23C18/00 | 分类号: | C23C18/00 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人: | 孙楠 |
地址: | 100190 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及一种用于连续离子层吸附的化学液相沉积成膜的设备,其包括:反应腔体,其内具有反应腔室和样品台,位于所述样品台的两侧分别设置有出液通孔,两个所述出液通孔经管路并联后作为所述反应腔体的出液端;反应前驱体溶液循环管路,其输出端与所述反应腔体的顶部连接,将反应前驱体溶液注入所述反应腔室内,使位于所述样品台上的基片材料浸入所述反应前驱体溶液内;所述反应前驱体溶液循环管路的输入端与所述出液端连接;清洗循环管路,其输出端与所述反应腔体的顶部连接,将清洗液注入所述反应腔室内,用于清洗所述基片材料;所述清洗循环管路的输入端与所述出液端连接。本发明能提高薄膜制备过程的可重复性、扩大薄膜的制备面积、提高薄膜的质量。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 连续 离子 吸附 化学 沉积 设备 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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