[发明专利]一种混合基质膜及其制备方法和应用有效
申请号: | 202111259614.8 | 申请日: | 2021-10-28 |
公开(公告)号: | CN113828170B | 公开(公告)日: | 2022-07-22 |
发明(设计)人: | 谢亚勃;张瑞丽;刘桐欣 | 申请(专利权)人: | 北京工业大学 |
主分类号: | B01D69/14 | 分类号: | B01D69/14;B01D67/00;B01D71/64;B01D53/22 |
代理公司: | 北京东方盛凡知识产权代理事务所(普通合伙) 11562 | 代理人: | 程小芳 |
地址: | 100124 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种混合基质膜及其制备方法和应用,属于材料科学领域与气体分离领域。混合基质膜包括高分子聚合物与多孔金属‑有机笼状配合物ZRT‑1‑4F。混合基质膜中多孔金属‑有机笼状配合物ZRT‑1‑4F的含量为1‑12wt%。本发明混合基质膜中填充的多孔金属‑有机笼状配合物ZRT‑1‑4F有别于传统的无机填充材料,传统的无机填充材料是随着在混合基质膜中填充量的增多,膜的分离性能越好;而本发明制备的多孔金属‑有机笼状配合物ZRT‑1‑4F则是在较低填充量(3.2wt%)时膜的分离性能最好,之后随着其填充量的增多,膜的分离性能反而下降。 | ||
搜索关键词: | 一种 混合 基质 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】:
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