[发明专利]分栅存储器阵列结构及操作方法在审

专利信息
申请号: 202111270187.3 申请日: 2021-10-29
公开(公告)号: CN114023364A 公开(公告)日: 2022-02-08
发明(设计)人: 王宁;张可钢 申请(专利权)人: 上海华虹宏力半导体制造有限公司
主分类号: G11C16/04 分类号: G11C16/04;G11C16/08;G11C16/24
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人: 焦健
地址: 201203 上海市浦东*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种分栅存储器阵列结构,所述的分栅存储器阵列结构由多个结构相同的存储单元在X方向和Y方向形成存储阵列;所述存储阵列放置于阱中;各个所述的存储单元为分栅结构形成选择管和存储管;在所述的存储阵列中,在Y方向上,每相邻的两个存储单元采用共源连接,即每相邻的两个存储单元的选择管为共源连接;共源相邻的两个存储单元的两个选择栅短接之后接X方向的选择管字线WL;每共源相邻的两个存储单元的存储栅分别接存储栅字线WLSa、WLSb;所述存储阵列中位于同一列上的所有存储管的漏极均与对应该列的Y方向的位线BL连接。本发明使用共源相邻的分栅结构存储器阵列结构,存储单元的结构更加紧凑,有效缩减了存储单元的面积。
搜索关键词: 存储器 阵列 结构 操作方法
【主权项】:
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