[发明专利]具有本征GaN帽层和多沟道的肖特基势垒二极管及制备方法在审

专利信息
申请号: 202111276721.1 申请日: 2021-10-29
公开(公告)号: CN114171606A 公开(公告)日: 2022-03-11
发明(设计)人: 张涛;李若晗;段小玲;张进成 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: H01L29/872 分类号: H01L29/872;H01L29/267;H01L21/329
代理公司: 西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙) 61230 代理人: 王萌
地址: 710000 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明涉及一种具有本征GaN帽层和多沟道的肖特基势垒二极管及制备方法,肖特基势垒二极管包括:衬底层、成核层、缓冲层、异质结多沟道结构、本征GaN帽层、阳电极、阴电极和阳极场板,衬底层、成核层、缓冲层、异质结多沟道结构和本征GaN帽层依次层叠;阳电极设置在本征GaN帽层和异质结多沟道结构的一端;阴电极位于本征GaN帽层和异质结多沟道结构的另一端;阳极场板位于阳电极和本征GaN帽层上。该肖特基二极管中,本征厚GaN帽层结构能有效缓解势垒层表面态的作用来抑制电流崩塌,提高器件的可靠性;异质结多沟道结构能够提高电子迁移率,增大器件总二维电子气密度,减小材料方阻,减小串联电阻,实现器件在高频高压应用领域的利用率。
搜索关键词: 具有 gan 沟道 肖特基势垒二极管 制备 方法
【主权项】:
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