[发明专利]放射源射线聚焦投射控制方法在审
| 申请号： | 202111300227.4 | 申请日： | 2021-11-04 |
| 公开（公告）号： | CN114010962A | 公开（公告）日： | 2022-02-08 |
| 发明（设计）人： | 张文山 | 申请（专利权）人： | 上海伽玛星科技发展有限公司 |
| 主分类号： | A61N5/10 | 分类号： | A61N5/10 |
| 代理公司： | 北京和联顺知识产权代理有限公司 11621 | 代理人： | 张娅玲 |
| 地址： | 200041 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了放射源射线聚焦投射控制方法，其通过对目标对象进行拍摄和识别，以此得到目标对象的身体异常区域对应存在的身体位置，同时结合对每个身体异常区域是否属于需进行放射治疗的区域的识别结果，从身体异常区域三维分布模型中标定出所有需进行放射治疗的区域以及确定每个需进行放射治疗的区域的几何外形信息；最后根据每个需要进行放射治疗的区域与放射源之间的相对位置信息和几何外形信息，调整放射源的射线投射方向和进行射线聚焦调整，这样能够保证放射源最终发出的射线能够对准投射到需进行放射治疗的区域上，同时还能够通过聚焦来调整射线的投射剂量以及保证射线能够全面覆盖照射到需进行放射治疗的区域上。 | ||
| 搜索关键词： | 放射源 射线 聚焦 投射 控制 方法 | ||
【主权项】：
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