[发明专利]一种可控制光照强度的防污染型光合细菌培养装置在审
申请号: | 202111302462.5 | 申请日: | 2021-11-04 |
公开(公告)号: | CN113943648A | 公开(公告)日: | 2022-01-18 |
发明(设计)人: | 吴春蓉 | 申请(专利权)人: | 吴春蓉 |
主分类号: | C12M1/36 | 分类号: | C12M1/36;C12M1/34;C12M1/22;C12M1/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 200000 上海市嘉定*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及细菌培养领域,尤其涉及一种可控制光照强度的防污染型光合细菌培养装置,包括有支撑底架、摆动组件、限位组件等;支撑底架上设置有摆动组件,摆动组件上设有限位组件。通过灯架内的光照灯为光合细菌提供光照,使光合细菌进行光合作用,菌细胞产生氢气越多,凹面透镜框间歇性向下运动使光照灯的光照范围逐渐扩大,使光合细菌接收到的光照更充足,实现根据需要控制光照强度的目的。 | ||
搜索关键词: | 一种 控制 光照强度 污染 光合 细菌 培养 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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