[发明专利]一种再生晶圆化学机械抛光液及其制备方法有效
| 申请号： | 202111312049.7 | 申请日： | 2021-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN113861848B | 公开（公告）日： | 2022-07-12 |
| 发明（设计）人： | 徐贺;卫旻嵩;卞鹏程;王庆伟;李国庆;王永东;崔晓坤;王瑞芹 | 申请（专利权）人： | 万华化学集团电子材料有限公司;万华化学集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 264006 山东省*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明提供一种再生晶圆化学机械抛光液及其制备方法，其质量百分数组成包括5％～50％的研磨颗粒、0.1％～10％的速率促进剂、0.5％～5％的络合剂、0.1％～2％的pH调节剂、0.001％～1％的非离子表面活性剂和0.001％～1％的甜菜碱型两性离子表面活性剂，余量为水。该抛光液可有效修复再生晶圆表面损伤，去除表面残余膜，并保持对硅晶圆的高去除速率。抛光后再生晶圆表面质量优异，增加循环使用次数。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 再生 化学 机械抛光 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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