[发明专利]提高抛光平坦度的化学机械抛光垫及其应用有效
| 申请号： | 202111312061.8 | 申请日： | 2021-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN113977453B | 公开（公告）日： | 2023-01-13 |
| 发明（设计）人： | 谢毓;王凯 | 申请（专利权）人： | 万华化学集团电子材料有限公司;万华化学集团股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/20 | 分类号： | B24B37/20;B24B37/22;B24B37/26;B24B37/24 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 264006 山东省*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种提高抛光平坦度的化学机械抛光垫及其应用，所述抛光垫的抛光层表面包含有两种不同微孔尺寸的区域：具有孔径1～50μm的I区小孔区和具有孔径为200～1000nm的II区微孔区。本发明的化学机械抛光垫具有特殊孔径分布的微孔，可以保证在更先进制程、更窄线宽的抛光条件下，得到最佳的表面平整度以及不产生较大的划伤。 | ||
| 搜索关键词： | 提高 抛光 平坦 化学 机械抛光 及其 应用 | ||
【主权项】：
暂无信息
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