[发明专利]盘形可调的抛光盘和抛光装置以及调控方法有效
| 申请号： | 202111313190.9 | 申请日： | 2021-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN114083419B | 公开（公告）日： | 2023-09-05 |
| 发明（设计）人： | 朱亮;李阳健;张雪纯;严浩;张杨燕 | 申请（专利权）人： | 浙江晶盛机电股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B29/02 | 分类号： | B24B29/02;B24B41/047;B24B49/14 |
| 代理公司： | 杭州华进联浙知识产权代理有限公司 33250 | 代理人： | 李丽华 |
| 地址： | 312300 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及抛光加工技术领域，特别是涉及一种盘形可调的抛光盘和抛光装置以及调控方法，该抛光盘包括：抛光模组，所述抛光模组具有一面为抛光面，所述抛光面用于抛光待抛光物；承托座，与所述抛光模组连接，并位于与所述抛光面相对的另一侧面，用于承托所述抛光模组，并驱动所述抛光模组转动；其中，所述抛光模组与所述承托座的热形变系数不同，调节所述抛光模组和所述承托座的温度，使所述抛光面内凹或凸出，以调节所述抛光面形状。本发明提供的抛光盘，在作业过程中，通过控制抛光模组以及承托座的温度，能够对抛光盘的盘形进行精确的调控，实现对待抛光物的抛光成型后的表面形状的进行调控，并且该抛光盘简单，盘形调控简便灵活。 | ||
| 搜索关键词： | 可调 抛光 装置 以及 调控 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江晶盛机电股份有限公司，未经浙江晶盛机电股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202111313190.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
