[发明专利]一种二硼化铪-碳化硅-二硅化钽-氧化钆复合涂层及其制备方法有效
申请号: | 202111313696.X | 申请日: | 2021-11-08 |
公开(公告)号: | CN114213155B | 公开(公告)日: | 2022-12-13 |
发明(设计)人: | 柳彦博;谢明劭;刘少璞;王一帆 | 申请(专利权)人: | 北京理工大学 |
主分类号: | C23C4/134 | 分类号: | C23C4/134;C04B41/87;C23C4/10 |
代理公司: | 北京盛凡佳华专利代理事务所(普通合伙) 11947 | 代理人: | 蔡浩 |
地址: | 100081 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供了一种二硼化铪‑碳化硅‑二硅化钽‑氧化钆复合涂层及其制备方法,属于复合涂层技术领域。本发明使用二硼化铪‑碳化硅‑二硅化钽‑氧化钆复合粉体作为涂层原料,不仅保持了传统体系二硼化铪‑碳化硅较强的高温抗氧化能力,还利用二硅化钽添加相来稳定氧化物的晶型转变以及补充玻璃相,利用氧化钆添加相来提高涂层整体发射率和增强玻璃相黏度的作用,进一步提高涂层的高温抗氧侵蚀的能力。本发明采用大气等离子喷涂的方式制备涂层,具有工艺简单、易于控制、生产效率高和成本低等优点,同时能够实现涂层厚度可控、减少涂层缺陷、提高涂层致密程度、最大程度保留粉体材料特性等特性。 | ||
搜索关键词: | 一种 二硼化铪 碳化硅 二硅化钽 氧化 复合 涂层 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法,例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法,例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
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C23C4-18 .后处理
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